曝光設(shè)備基礎(chǔ)知識(shí)

曝光設(shè)備基礎(chǔ)知識(shí)

什么是曝光裝置？

曝光設(shè)備是一種用于半導(dǎo)體和液晶顯示屏制造現(xiàn)場(chǎng)的設(shè)備，通過(guò)照射光線將電路和像素等圖案描繪到基板上。

由于使用光線且需要在舞臺(tái)和其他地點(diǎn)進(jìn)行精確控制，許多產(chǎn)品體積龐大且價(jià)格高達(dá)數(shù)億美元。 暴露工藝是一種非常重要的裝置，因?yàn)樗鼪Q定半導(dǎo)體和液晶設(shè)計(jì)中設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)（CAD數(shù)據(jù)）的模式。 各種曝光方法已被多家公司開(kāi)發(fā)并應(yīng)用于設(shè)備中。

曝光設(shè)備的應(yīng)用

曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造現(xiàn)場(chǎng)和平面顯示器（FPD），包括液晶顯示器。

在半導(dǎo)體制造中，硅晶圓被用作基板形成氧化膜，然后涂上光阻（光導(dǎo)體），然后通過(guò)光罩照射照射從曝光裝置發(fā)出的強(qiáng)紫外線到涂層表面，從而通過(guò)蝕刻等工藝去除不必要的區(qū)域。 這種使用曝光設(shè)備的方法稱為光刻。

在液晶顯示制造過(guò)程中，通常使用玻璃基板，金屬及其他薄膜會(huì)重復(fù)多次薄膜形成、光刻和蝕刻的循環(huán)。

在一個(gè)基板上，可以形成像素電極和開(kāi)關(guān)元件（如TFT元件），而在另一個(gè)基板上，可以形成具有三種原色光（紅、綠、藍(lán)）的彩色濾光片。 通過(guò)將兩個(gè)基板結(jié)合在一起并在中間放置液晶材料，液晶顯示屏面板就完成了。

選擇曝光設(shè)備時(shí)價(jià)格昂貴，因此購(gòu)買前必須與設(shè)備制造商充分討論所用光源類型、精度及舞臺(tái)精度。

曝光設(shè)備的原理

讓我來(lái)解釋一下曝光裝置的測(cè)量原理。 曝光設(shè)備包括光源、偏轉(zhuǎn)透鏡、光罩、聚焦透鏡、舞臺(tái)和用于運(yùn)輸硅晶圓的機(jī)器人。

鏡頭和光罩設(shè)計(jì)極其精密，舞臺(tái)操作精準(zhǔn)。 在操作過(guò)程中，曝光目標(biāo)被精確固定在舞臺(tái)上。 在操作過(guò)程中，舞臺(tái)隨著每次曝光移動(dòng)，在整個(gè)曝光目標(biāo)中描繪出眾多圖案。

光源發(fā)出的短而強(qiáng)波長(zhǎng)的光被偏轉(zhuǎn)透鏡對(duì)準(zhǔn)并照射到光罩上，作為電路圖案形成的原型。 通過(guò)光罩的光會(huì)被聚光鏡聚焦，該透鏡將極小的電路圖樣映射到被曝光的目標(biāo)上。

一旦整個(gè)目標(biāo)區(qū)域的曝光完成，就會(huì)由機(jī)器人或類似設(shè)備運(yùn)輸。 有些產(chǎn)品允許暴露目標(biāo)穿透液體，從而實(shí)現(xiàn)更高的精度曝光。

關(guān)于曝光設(shè)備的其他信息